Известия Саратовского университета. Новая серия.
ISSN 1816-9775 (Print)
ISSN 2541-8971 (Online)


405 nm

Динамика формирования у Staphylococcus aureus толерантности к фиолетовому (405 нм) cветодиодному излучению при многократном воздействии

Проведено исследование формирования толерантности к низкоинтенсивному фиолетовому (405 нм, 80 мВт/см2 , 72 Дж/см2 ) светодиодному излучению у клинического антибиотико-устойчивого штамма Staphylococcus aureus 2а. Изучено изменение численности в ходе 20 циклов облучения, исследована реакция бактериальных клеток на окислительный стресс – чувствительность к присутствию в среде перекиси водорода и активность каталазы.

Фотокаталитическое действие светодиодного излучения (405 нм) и новых 3D-нанокомпозитов AL2O3 на рост Staphylococcus aureus

Прогрессирующий рост устойчивости бактерий к антибиотическим препаратам требует создания высокоэффективных наноматериалов для борьбы с резистентными штаммами бактерий в условиях медицинских учреждений. Оксид алюминия является стабильным нетоксичным полупроводниковым материалом, однако фотокаталитические свойства его модификаций в отношении микроорганизмов недостаточно изучены. В данном исследовании были использованы новые 3D-композиты оксигидроксида алюминия (Al2O3 ? nH2O) в трех модификациях (?, ? и ?), представляющие собой сетку из 150-нм нанофибрил.